标题 |
Preparation and Properties of Thin HfO2 Films
HfO2薄膜的制备及性能研究
相关领域
铪
X射线光电子能谱
化学气相沉积
硅
硅化物
材料科学
薄膜
退火(玻璃)
分析化学(期刊)
单斜晶系
介电常数
硅酸盐
形成气体
电介质
高-κ电介质
化学
锆
化学工程
光电子学
结晶学
纳米技术
晶体结构
冶金
有机化学
工程类
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Inorganic materials 作者:L. V. Yakovkina; V. N. Kichai; T. P. Smirnova; В. В. Каичев; Yu. V. Shubin; et al 出版日期:2005-12-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|