Oxidation process of SiGe on SOI substrates

已完结

文献求助详情

标题	Oxidation process of SiGe on SOI substrates SOI衬底上SiGe的氧化过程相关领域绝缘体上的硅材料科学氧化法过程（计算）光电子学工程物理纳米技术硅计算机科学化学工程工程类操作系统
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2005.07.066
DOI	10.1016/j.apsusc.2005.07.066 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Bo Jin; Xi Wang; Jing Chen; Feng Zhang; Xinli Cheng; et al 出版日期：2005-09-16
求助人	qazwsxedc 在 2024-10-24 20:25:38 发布自河北，悬赏 10 积分
下载	该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。
	温馨提示：该文献已被科研通学术中心收录，前往查看科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。

Society for Industrial and Applied Mathematics (SIAM)

上个求助

提交工单

该求助已完结，感谢关注

如需该文献，请重新发布求助，前往发布

科研通，破除各种障碍，优化资源分配，让科研信息充分流通

请遵守相关知识产权规定，勿将文件分享给他人，仅可用于个人研究学习

我的文献求助列表浏览历史

一分钟了解求助规则 | 捐赠本站 | 历史今天

更新

2025年影响因子查询已上线 (2025-6-18)

更新

PDF的下载单位、IP信息已删除 (2025-6-4)

科研通是完全免费的文献互助平台，具备全网最快的应助速度，最高的求助完成率。对每一个文献求助，科研通都将尽心尽力，给求助人一个满意的交代。

实时播报: 量子星尘发布了新的文献求助10

1秒前; 无极微光的应助被灵巧的易梦采纳，获得20

1秒前; 褚佑发布了新的文献求助10

1秒前; 斯文败类上传了应助文件

2秒前; zz发布了新的文献求助10

2秒前; 王纯完成签到，获得积分20

2秒前; 猪猪hero上传了应助文件

2秒前; 小二完成签到，获得积分10

3秒前; Lucas上传了应助文件

3秒前; 小蘑菇上传了应助文件

4秒前; 顾矜上传了应助文件

4秒前; 1234发布了新的文献求助10

7秒前; Jasper上传了应助文件

7秒前; 猪猪hero上传了应助文件

8秒前; 小蘑菇上传了应助文件

8秒前; NexusExplorer上传了应助文件

9秒前; 李飘飘发布了新的文献求助10

10秒前; zpctx的应助被大意的映天采纳，获得20

10秒前; 呦呼发布了新的文献求助10

10秒前; gzl发布了新的文献求助10

10秒前; 香蕉觅云的应助被lubaohong采纳，获得10

11秒前; 所所的应助被悦耳的黑米采纳，获得10

12秒前; 深情安青的应助被bubudada采纳，获得10

12秒前; WCC的应助被小九采纳，获得10

13秒前; jyh完成签到，获得积分20

14秒前; 深情安青上传了应助文件

14秒前; Jieyu完成签到，获得积分10

14秒前; gulihong发布了新的文献求助10

15秒前; 摸鱼大王发布了新的文献求助10

15秒前; 搞怪如豹发布了新的文献求助10

15秒前; 羊咩咩完成签到，获得积分10

15秒前; 思源上传了应助文件

16秒前; 猪猪hero上传了应助文件

16秒前; 科研菜鸟完成签到，获得积分10

16秒前; 小蘑菇上传了应助文件

16秒前; 李爱国上传了应助文件

16秒前; 辛辛发布了新的文献求助10

17秒前; 红烧板蓝根完成签到，获得积分10

17秒前; 顾一完成签到，获得积分10

17秒前; orixero上传了应助文件

17秒前