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标题
Surface microtopography evolution of monocrystalline silicon in chemical mechanical polishing
单晶硅化学机械抛光表面形貌的演变
相关领域
单晶硅 抛光 材料科学 表面粗糙度 硅 表面光洁度 化学机械平面化 化学物理 冶金 光学 复合材料 化学 物理
网址
https://doi.org/10.1016/j.jmatprotec.2024.118387
DOI
10.1016/j.jmatprotec.2024.118387 doi
其它 期刊：Journal of Materials Processing Technology
作者：Ke Yang; Hongyu Di; Ning Huang; Changyu Hou; Ping Zhou
出版日期：2024-07-01
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稳稳 在 2025-05-29 19:28:09 发布自吉林，悬赏 10 积分
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