Mechanical Stress in SiNx Films Grown by High Density Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

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标题	Mechanical Stress in SiNx Films Grown by High Density Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 高密度等离子体增强化学气相沉积SiNx薄膜中的机械应力相关领域沉积（地质）化学气相沉积材料科学感应耦合等离子体分析化学（期刊）残余应力压力（语言学）等离子体增强化学气相沉积薄膜等离子体化学复合材料纳米技术色谱法古生物学语言学物理哲学量子力学沉积物生物
网址	http://dx.doi.org/10.1134/S0020168522090072
DOI	10.1134/S0020168522090072 doi
求助人	Caboda 在 2025-04-15 16:50:44 发布自安徽，悬赏 10 积分
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