| 标题 |
 专利、报告等 Integrating Philips' extreme UV source in the alpha-tools |
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| DOI |
10.1117/12.598650
doi
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| 其它 |
作者：Joseph Pankert、Rolf Apetz、Klaus Bergmann 等 年份：2005 出版机构：SPIE 文献性质：单篇会议论文，非整本会议论文集 收录于：Emerging Lithographic Technologies IX 系列：Proceedings of SPIE 卷号：5751 起始页：260 DOI：10.1117/12.598650 求助范围：该DOI对应的完整会议论文，包括全部正文、图表和参考文献。 |
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