Does high-NA EUV require tighter mask roughness specifications: a simulation study

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标题	Does high-NA EUV require tighter mask roughness specifications: a simulation study 高NA EUV是否需要更严格的掩模粗糙度规格：一项模拟研究相关领域极紫外光刻表面光洁度光学堆栈（抽象数据类型）薄脆饼抵抗材料科学表面粗糙度涟漪涂层平面的计算机科学平版印刷术光电子学物理图层（电子）纳米技术计算机图形学（图像）复合材料电压程序设计语言量子力学
网址	https://www.spiedigitallibrary.org/conference-proceedings-of...
DOI	10.1117/12.2643247 doi
求助人	有匪在 2023-12-18 12:12:15 发布自广东，悬赏 30 积分
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