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标题
Ion energy control in an industrial ICP etch chamber without bias power usage
无需偏置电源的工业ICP蚀刻室中的离子能量控制
相关领域
法拉第笼 偏压 法拉第杯 离子 等离子体 蚀刻（微加工） 射频功率放大器 材料科学 感应耦合等离子体 薄脆饼 反应离子刻蚀 等离子体刻蚀 光电子学 电压 原子物理学 化学 分析化学（期刊） 离子束 电气工程 纳米技术 物理 图层（电子） 有机化学 工程类 磁场 量子力学 放大器 CMOS芯片 色谱法
网址
https://doi.org/10.1116/6.0001477
AI链接 scitation.orgdoi.org
DOI
10.1116/6.0001477 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science and technology
作者：Michael Klick; Hans-Peter Maucher
出版日期：2021-12-30
求助人
含糊的雨安 在 2025-05-26 19:12:07 发布自上海，悬赏 10 积分
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