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 Real time investigation of nucleation and growth of silicon on silicon dioxide using silane and disilane in a rapid thermal processing system 相关领域
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Yi Hu; Dörte Diehl; Chunchang Zhao; C. L. Wang; Quan Liu; et al 出版日期：1996-03-01 |
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