Influence of oxygen precursors on atomic layer deposition of HfO2 and hafnium-titanium oxide films: Comparison of O3- and H2O-based processes

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标题	Influence of oxygen precursors on atomic layer deposition of HfO2 and hafnium-titanium oxide films: Comparison of O3- and H2O-based processes
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2020.147229
DOI	10.1016/j.apsusc.2020.147229 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Lauri Aarik; Tõnis Arroval; Hugo Mändar; Raul Rammula; Jaan Aarik 出版日期：2020-07-13
求助人	火星上初柳在 2026-08-13 18:11:13 发布自福建，悬赏 10 积分
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