| 标题 |
 Process Optimization of Plasma Etching on the Size Reduction of Polystyrene Microspheres 相关领域
材料科学
蚀刻（微加工）
聚苯乙烯
表面粗糙度
粒径
体积流量
微球
硅
制作
表面改性
过程（计算）
纳米技术
响应面法
扫描电子显微镜
感应耦合等离子体
等离子体刻蚀
还原（数学）
粒子（生态学）
工艺优化
反应离子刻蚀
表面光洁度
过程变量
干法蚀刻
分析化学（期刊）
化学工程
形态学（生物学）
粒度
纳米颗粒
复合材料
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| 网址 | |
| DOI |
10.16577/j.issn.1001-1560.2025.0114
doi
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| 其它 |
期刊：DOAJ (DOAJ: Directory of Open Access Journals) 作者：SUN Shiyang, HUANG Shengbao, QIAN Yuanjin, LIU Dongkun, LI Jiabin, REN Yuan, ZHANG Wenxing 出版日期：2025-07-01 |
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(2025-6-4)
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