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 Atomic layer deposition of aluminum phosphate layers using tris(dimethylamino)phosphine as P-precursor 使用三（二甲基氨）磷作为P-前体的磷酸铝层的原子层沉积
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Ruben Blomme; Aditya Chalishazar; Lowie Henderick; Frans Munnik; Johan Meersschaut; et al 出版日期：2025-02-21 |
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