WOx interfacial engineering for imprint suppression in HfZrO2 ferroelectric capacitors

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标题	WOx interfacial engineering for imprint suppression in HfZrO2 ferroelectric capacitors
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2026.112500
DOI	10.1016/j.mee.2026.112500 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：Zibo Dong; Zeping Weng; Daolin Cai; Yi Zhao 出版日期：2027-01-01
求助人	落寞晓兰在 2026-08-22 12:33:46 发布自安徽，悬赏 10 积分
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