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一种超精密YIG单晶的研磨抛光加工方法
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| 其它 | 发明人:魏源, 李阳, 李俊, 刘庆元, 蒋金秀, 帅世荣, 左林森, 刘进, 肖礼康申请日期:2025.09.10公开日期:2025.11.18分类号:B24B37/10;|B24B37/04;|B24B37/005;|B24B37/013;|B24B49/00申请号:202511289946.9申请人:西南应用磁学研究所(中国电子科技集团公司第九研究所)公开号:CN120962534A专利类型:发明专利国省代码:51 |
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(2025-6-4)