| 标题 |
 Positive electron beam resists for lithography below 5 nm 相关领域
抵抗
材料科学
电子束光刻
平版印刷术
纳米光刻
光电子学
扫描电子显微镜
光学
透射电子显微镜
阴极射线
X射线光刻
光刻
化学气相沉积
纳米结构
扫描透射电子显微镜
线条宽度
模版印刷
光刻胶
下一代光刻
电子束处理
纳米技术
电子束诱导沉积
分辨率（逻辑）
梁（结构）
直线（几何图形）
衍射光栅
高分辨率透射电子显微镜
干涉光刻
浸没式光刻
薄膜
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Axel Scherer; Richard D. Smith 出版日期：2025-12-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
极限001
学霸业
嘻嘻哈哈
小马宝莉
Ray
Yinxb
渡人舟
刻苦若之
囧囧
sutharsons
GingerF
林狗
v0id
mmyhn
kento
贪玩的秋柔
Dean
畔畔
My_magnum_opus
GS草台班子
皖公网安备34019202002308
