Degradation behaviors and mechanisms of perfluoroelastomers exposed to a high-temperature chlorine-containing environment for semiconductor dry etching equipment

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标题	Degradation behaviors and mechanisms of perfluoroelastomers exposed to a high-temperature chlorine-containing environment for semiconductor dry etching equipment
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S014139102...
DOI	10.1016/j.polymdegradstab.2026.112322 doi
其它	期刊：Polymer Degradation and Stability 作者：Fandi Meng; Xiaolong Wen; Shucheng Ren; Peng Sun; Tao Zhang; et al 出版日期：2026-07-11
求助人	一叶舟在 2026-10-18 01:27:18 发布自北京，悬赏 10 积分
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