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标题
A Stable Cu Nanoparticles Used for Seed Layer Deposition of through Silicon Via
用于硅通孔种子层沉积的稳定铜纳米粒子
相关领域
材料科学 薄脆饼 通过硅通孔 堆积 电镀 图层(电子) 化学机械平面化 光电子学 镀铜 纳米技术 蚀刻(微加工) 炸薯条 计算机科学 化学 电信 有机化学
网址
DOI
10.1149/ma2014-02/33/1682 doi
其它 期刊:Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM)
作者:Yao-Lin Tsai; Wei‐Ping Dow
出版日期:2014-08-05
求助人
BuMAMAHAHA 在 2024-11-25 17:34:05 发布自湖北,悬赏 10 积分
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