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  Pattern roughness analysis using power spectral density: application and impact in photoresist formulation 利用功率谱密度分析图案粗糙度：在光刻胶配方中的应用和影响
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期刊：Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 作者：Charlotte Cutler; James W. Thackeray; Peter Trefonas; Dan B. Millward; Choong-Bong Lee; et al 出版日期：2021-01-28 |
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