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标题
Maskless lithography based on oblique scanning of point array with digital distortion correction
基于点阵斜扫描和数字失真修正的无掩模曝光
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1016/j.optlaseng.2020.106313
DOI
10.1016/j.optlaseng.2020.106313 doi
其它 期刊：Optics and Lasers in Engineering
作者：Hung-Laing Chien; Yi-Hsien Chiu; Yung-Chun Lee
出版日期：2020-08-01
求助人
虚拟的尔烟 在 2025-07-21 13:40:33 发布自广东，悬赏 10 积分
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