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标题
Two- and Three-Dimensional Recrystallization of Discrete Amorphous in C3H5-Molecular-Ion-Implanted Silicon Surface Analyzed by TCAD Simulation
C3H5分子离子注入硅表面离散非晶的二维和三维再结晶
相关领域
材料科学 再结晶（地质） 无定形固体 硅 离子 非晶硅 离子注入 曲面（拓扑） 工程物理 结晶学 光电子学 晶体硅 几何学 量子力学 物理 古生物学 化学 数学 生物
网址
https://doi.org/10.1149/2162-8777/ad3002
AI链接 iop.orgdoi.org
DOI
10.1149/2162-8777/ad3002 doi
其它 期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology
作者：Kôji Kobayashi; Ryosuke Okuyama; Takeshi Kadono; Ayumi Onaka‐Masada; Ryo Hirose; et al
出版日期：2024-03-04
求助人
大模型 在 2025-08-18 16:43:21 发布，悬赏 10 积分
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