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 Tungsten-Doped Amorphous Carbon Deposited by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (Pecvd) for Dry Etching Hardmask Applications 通过等离子体增强化学蒸气沉积（PecVD）沉积掺碳非晶碳用于干蚀刻硬掩模应用
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期刊： 作者：Gaosheng Zhang; Yulong Wu; Haydn Zhou; Xinggui Zhou; Zongliang Huo 出版日期：2025-01-01 |
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