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 Formation kinetics and extent of the boron oxygen defect in compensated n-type silicon 补偿n型硅中硼氧缺陷的形成动力学及程度
相关领域
硅
硼
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分析化学（期刊）
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有机化学
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期刊： 作者：Fiacre Rougieux; Daniel Macdonald; A. Cuevas; Bianca Lim; Jan Schmidt 出版日期：2011-06-01 |
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