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Edge facet dynamics during the growth of heavily doped n-type silicon by the Czochralski-method
Czochralski法生长重掺杂n型硅的边缘刻面动力学
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DOI
10.1016/j.jcrysgro.2018.03.028 doi
其它 期刊:Journal of Crystal Growth
作者:L. Stockmeier; C. Kranert; G. Raming; Alfred Miller; C. Reimann; et al
出版日期:2018-03-18
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小柠檬 在 2025-07-03 11:43:51 发布自辽宁,悬赏 10 积分
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