Plasma sheath tailoring by a magnetic field for three-dimensional plasma etching

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标题	Plasma sheath tailoring by a magnetic field for three-dimensional plasma etching
网址	https://pubs.aip.org/aip/apl/article-pdf/doi/10.1063/5.01876...
DOI	10.1063/5.0187685 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Elia Jüngling; Sebastian Wilczek; Thomas Mussenbrock; Marc Böke; Achim von Keudell 出版日期：2024-02-12
求助人	灵巧的尔芙在 2026-03-16 15:35:14 发布自北京，悬赏 10 积分
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