Phase formation and stability of Ni silicide contacts - scaling to ultra-thin films

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标题	Phase formation and stability of Ni silicide contacts - scaling to ultra-thin films
网址	https://doi.org/10.1109/ICSICT.2010.5667516
DOI	10.1109/ICSICT.2010.5667516 doi
其它	期刊：2010 10th IEEE International Conference on Solid-State and Integrated Circuit Technology 作者：C. Detavernier; K. De Keyser; C. Van Bockstael; J. Jordan-Sweet; C. Lavoie 出版日期：2010
求助人	Salvator 在 2026-05-22 12:58:35 发布自浙江，悬赏 10 积分
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