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High-NA EUV lithography enabling Moore’s law in the next decade
未来十年实现摩尔定律的高NA EUV光刻
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期刊: 作者:Jan van Schoot; Kars Troost; Frank Bornebroek; Rob van Ballegoij; Sjoerd Lok; et al 出版日期:2017-10-16 |
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