| 标题 |
 Suppression of Poly Depletion Effect by Optimizing Ion Implantation and Rapid Thermal Annealing Process in 55nm Nor Flash Technology 优化离子注入和快速退火工艺抑制55nm Nor闪光工艺中的聚耗尽效应
相关领域
PMOS逻辑
退火（玻璃）
材料科学
离子注入
光电子学
氧化物
热的
离子
掺杂剂活化
掺杂剂
闪光灯
电气工程
化学
复合材料
电压
冶金
工程类
兴奋剂
晶体管
有机化学
气象学
物理
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊： 作者：Hualun Chen; Jiahui Jiao; Hu Wang; Haochun Xiao; Zhaozhao Xu; et al 出版日期：2022-06-20 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
maox1aoxin
cctv18
gjww
西红柿炒番茄
benben
shinysparrow
草拟大坝
寻道图强
mechen
Maestro_S
学习快乐
sutharsons
pluto
H123
sswbzh
敬老院1号
Jack80
bravo
newfat
搬书胖瘦胖
皖公网安备34019202002308
