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Ionization region model of high power impulse magnetron sputtering of copper
高功率脉冲磁控溅射铜的电离区模型
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期刊:Surface & Coatings Technology 作者:Jón Tómas Guðmundsson; Joel Fischer; B.P. Hinriksson; Martin Rudolph; Daniel Lundin 出版日期:2022-07-01 |
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