Atomic Layer Deposition of WO3-Doped In2O3 for Reliable and Scalable BEOL-Compatible Transistors

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标题	Atomic Layer Deposition of WO3-Doped In2O3 for Reliable and Scalable BEOL-Compatible Transistors
网址	https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.4c00746
DOI	10.1021/acs.nanolett.4c00746 doi
其它	期刊：Nano Letters 作者：Chanyoung Yoo; Jonathan Hartanto; Balreen Saini; Wilman Tsai; Vivek Thampy; et al 出版日期：2024-04-30
求助人	藤藤菜在 2026-08-11 21:36:14 发布自重庆，悬赏 30 积分
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