| 标题 |
 Ultrahigh Current Vertical Channel‐All‐Around Indium–Gallium–Zinc–Oxide Field‐Effect Transistors Using Indium–Tin–Oxide Electrode with Sub‐100 nm Critical Dimension 使用临界尺寸低于100 nm的氧化铟锡电极的超高电流垂直沟道全方位氧化铟镓锌场效应晶体管
相关领域
铟
氧化铟锡
材料科学
电极
镓
锌
氧化物
光电子学
电流（流体）
电气工程
纳米技术
冶金
化学
图层（电子）
工程类
物理化学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：physica status solidi (RRL) - Rapid Research Letters 作者：Chunyu Zhang; Chuanke Chen; Yanjun Tang; Kaiping Zhang; Congyan Lu; et al 出版日期：2025-03-13 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
cdercder
随风沙ZYX
Nole
无极微光
OK
v0id
DW
DOC_XIONG
aajhajkahna
Kao
dde
GGGGA
火星上笑珊
清爽老九
秋风
犹豫的大碗
aaaa
卡乐瑞咩吹可
狂野紫丝
渡人舟
皖公网安备34019202002308
