Organometallic and coordinative photoresist materials for EUV lithography and related photolytic mechanisms

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标题	Organometallic and coordinative photoresist materials for EUV lithography and related photolytic mechanisms 用于EUV光刻的有机金属和配位光刻胶材料及其光解机理相关领域极紫外光刻光刻胶纳米光刻平版印刷术纳米技术化学光刻抵抗光化学光电子学材料科学制作图层（电子）医学替代医学病理
网址	https://doi.org/10.1016/j.ccr.2023.215307
DOI	10.1016/j.ccr.2023.215307 doi
其它	期刊：Coordination Chemistry Reviews 作者：Gi Hyun Lim; K. Y. Lee; Sung-Eun Choi; Ho‐Geun Yoon 出版日期：2023-10-01
求助人	张庭豪在 2024-04-04 22:10:51 发布自江苏，悬赏 10 积分
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