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  Recent progress on high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS): The challenges and applications in fabricating VO2 thin film 相关领域
高功率脉冲磁控溅射
薄膜
材料科学
溅射沉积
物理气相沉积
光电子学
溅射
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工程物理
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期刊：AIP Advances 作者：Haibao Zhang; J.S. Cherng; Qiang Chen 出版日期：2019-03-01 |
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(2025-6-4)
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