Analysis of (Al,Cr,Nb,Ta,Ti)-nitride and -oxynitride diffusion barriers in Cu-Si interconnects by 3D-Secondary Ion Mass Spectrometry

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标题	Analysis of (Al,Cr,Nb,Ta,Ti)-nitride and -oxynitride diffusion barriers in Cu-Si interconnects by 3D-Secondary Ion Mass Spectrometry 相关领域材料科学扩散阻挡层二次离子质谱法氮化物退火（玻璃）溅射微晶阻挡层分析化学（期刊）无定形固体卢瑟福背散射光谱法铌离子冶金薄膜复合材料结晶学图层（电子）纳米技术化学物理量子力学色谱法
网址	https://doi.org/10.1016/j.matchar.2023.112676
DOI	10.1016/j.matchar.2023.112676 doi
其它	期刊：Materials Characterization 作者：A. Kretschmer; Fabian Bohrn; Herbert Hutter; Eduardo Pitthan; Tuan T. Tran; et al 出版日期：2023-01-18
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