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 Effect of different frequency combination on ArF photoresist deformation and silicon dioxide etching in the dual frequency superimposed capacitively coupled plasmas 不同频率组合对双频叠加电容耦合等离子体中ArF光刻胶形变和二氧化硅刻蚀的影响
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：C. H. Lee; D. H. Kim; N.-E. Lee; Gi Chung Kwon 出版日期：2006-06-22 |
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