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 Design and fabrication results of Z-gate layout MOSFETs for radiation hardness integrated circuit 抗辐射集成电路用Z栅布局MOSFET的设计和制作结果
相关领域
浅沟隔离
CMOS芯片
辐射硬化
MOSFET
制作
材料科学
光电子学
栅氧化层
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沟槽
辐射
集成电路
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物理
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医学
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Kaito Kuroki; Arisa Kimura; Kenji Hirakawa; Masayuki Iwase; Munehiro Ogasawara; et al 出版日期：2023-01-06 |
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