标题 |
Suppression and characterization of interface states at low-pressure-chemical-vapor-deposited SiN /III-nitride heterostructures
低压化学气相沉积SiN/III-氮化物异质结构界面态的抑制与表征
相关领域
化学气相沉积
材料科学
异质结
光电子学
深能级瞬态光谱
氮化硅
饱和(图论)
等离子体增强化学气相沉积
电介质
硅
数学
组合数学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Applied Surface Science 作者:Kexin Deng; Xinhua Wang; Sen Huang; Haibo Yin; Jie Fan; et al 出版日期:2021-03-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|