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标题
A HFIPS-based polymer approach for 157-nm single layer photoresist
基于HFIPS的157纳米单层光刻胶聚合物方法
相关领域
抵抗 聚合物 光刻胶 透明度（行为） 材料科学 平版印刷术 纳米技术 光刻 图层（电子） 制作 光电子学 计算机科学 复合材料 医学 替代医学 计算机安全 病理
网址
https://doi.org/10.1117/12.485185
DOI
10.1117/12.485185 doi
其它 期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者：Shinichi Kanna; Kazuyoshi Mizutani; Shoichiro Yasunami; Yasumasa Kawabe; Shiro Tan; et al
出版日期：2003-06-11
求助人
慕青 在 2025-10-27 07:55:14 发布自内蒙古，悬赏 20 积分
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