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 Simulation of statistical effects in exposure and development of EUV photoresists using the percolation and diffusion limited aggregation model 用渗流和扩散限制聚集模型模拟EUV光致抗蚀剂曝光和显影中的统计效应
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期刊： 作者：Akira Sasaki 出版日期：2019-03-26 |
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