On the coupling effect in the RF-biased inductively coupled plasma with the synchronous control

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标题	On the coupling effect in the RF-biased inductively coupled plasma with the synchronous control 同步控制射频偏压电感耦合等离子体中的耦合效应相关领域物理朗缪尔探针感应耦合等离子体消散等离子体偏压原子物理学射频功率放大器联轴节（管道）功率（物理）温度电子等离子体振荡等离子体诊断电压光电子学材料科学放大器量子力学 CMOS芯片冶金
网址	https://doi.org/10.1063/5.0180963
DOI	10.1063/5.0180963 doi
其它	期刊：Physics of Plasmas 作者：Yi He; M. Lu; Xue Liu; Jiamin Huang; Jiawei Zhang; et al 出版日期：2024-02-01
求助人	娃哈哈在 2025-08-09 16:38:48 发布自浙江，悬赏 10 积分
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