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标题
Realization of Maximum 2 A/mm Drain Current on Top-Gate Atomic-Layer-Thin Indium Oxide Transistors by Thermal Engineering
相关领域
算法 物理 拓扑（电路） 电气工程 计算机科学 工程类
网址
https://doi.org/10.1109/ted.2021.3125923
DOI
10.1109/ted.2021.3125923 doi
其它 期刊：IEEE Transactions on Electron Devices
作者：Pai-Ying Liao; Mengwei Si; Zhuocheng Zhang; Zehao Lin; Peide D. Ye
出版日期：2021-11-17
求助人
从容的元芹 在 2025-10-28 20:18:54 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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