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标题
Deep reactive ion etching of cylindrical nanopores in silicon for photonic crystals
光子晶体硅中圆柱形纳米孔的深度反应离子刻蚀
相关领域
咬边 纳米孔 材料科学 逐渐变细 蚀刻（微加工） 反应离子刻蚀 硅 纳米光子学 纳米技术 光子学 光电子学 等离子体刻蚀 光子晶体 深反应离子刻蚀 复合材料 计算机图形学（图像） 图层（电子） 计算机科学
网址
https://doi.org/10.1088/1361-6528/acc034
AI链接 iop.org chemrxiv.org nih.govdoi.org
DOI
10.1088/1361-6528/acc034 doi
其它 期刊：Nanotechnology
作者：Melissa J. Goodwin; Cornelis A.M. Harteveld; Meint J. de Boer; Willem L. Vos
出版日期：2023-03-16
求助人
快乐的小叮当 在 2025-08-29 02:52:32 发布，悬赏 10 积分
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