| 标题 |
Deep reactive ion etching of cylindrical nanopores in silicon for photonic crystals 光子晶体硅中圆柱形纳米孔的深度反应离子刻蚀
相关领域
咬边
纳米孔
材料科学
逐渐变细
蚀刻(微加工)
反应离子刻蚀
硅
纳米光子学
纳米技术
光子学
光电子学
等离子体刻蚀
光子晶体
深反应离子刻蚀
复合材料
计算机图形学(图像)
图层(电子)
计算机科学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Nanotechnology 作者:Melissa J. Goodwin; Cornelis A.M. Harteveld; Meint J. de Boer; Willem L. Vos 出版日期:2023-03-16 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)