Towards Fabrication of Atomic Dopant Wires via Monolayer Doping Patterned by Resist-Free Lithography

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标题	Towards Fabrication of Atomic Dopant Wires via Monolayer Doping Patterned by Resist-Free Lithography 通过无抗蚀剂光刻图案化的单层掺杂制造原子掺杂剂线相关领域掺杂剂材料科学抵抗单层电子束光刻平版印刷术硅兴奋剂光电子学纳米技术制作纳米光刻退火（玻璃）复合材料图层（电子）替代医学病理医学
网址	https://doi.org/10.1088/0256-307x/38/2/028101
DOI	10.1088/0256-307x/38/2/028101 doi
其它	期刊：Chinese Physics Letters 作者：Chufan Zhang; Ke Li; Xiaoxian Zang; Fuyuan Ma; Yaping Dan 出版日期：2021-02-01
求助人	安详的凝竹在 2025-08-29 09:12:23 发布，悬赏 10 积分
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