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标题
Towards Fabrication of Atomic Dopant Wires via Monolayer Doping Patterned by Resist-Free Lithography
通过无抗蚀剂光刻图案化的单层掺杂制造原子掺杂剂线
相关领域
掺杂剂 材料科学 抵抗 单层 电子束光刻 平版印刷术 硅 兴奋剂 光电子学 纳米技术 制作 纳米光刻 退火（玻璃） 复合材料 图层（电子） 替代医学 病理 医学
网址
https://doi.org/10.1088/0256-307x/38/2/028101
DOI
10.1088/0256-307x/38/2/028101 doi
其它 期刊：Chinese Physics Letters
作者：Chufan Zhang; Ke Li; Xiaoxian Zang; Fuyuan Ma; Yaping Dan
出版日期：2021-02-01
求助人
安详的凝竹 在 2025-08-29 09:12:23 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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