| 标题 |
 Evaluation and Comparison of Novel Precursors for Atomic Layer Deposition of Nb2O5Thin Films 相关领域
原子层沉积
无定形固体
薄膜
材料科学
弹性后坐力检测
电介质
氧气
热稳定性
分析化学（期刊）
介电常数
高-κ电介质
沉积（地质）
纳米技术
化学工程
结晶学
化学
光电子学
古生物学
沉积物
工程类
有机化学
色谱法
生物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Chemistry of Materials 作者：Timothee Blanquart; Jaakko Niinistö; Mikko Heikkilä; Timo Sajavaara; Kaupo Kukli; et al 出版日期：2012-02-08 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
浮游
彭于彦祖
Stella
tuanheqi
昏睡的蟠桃
Smar_zcl
Zx_1993
LPPQBB
GingerF
哆啦十七
那时花开
pcr163
嘿嘿
xxfsx
wlscj
子车茗
MchemG
菠菜
嘻嘻哈哈
风吹麦田
ZOE
小青椒
无心客
Criminology34
皖公网安备34019202002308
