| 标题 |
Bulk resistance and contact impedance: Particular solution for annulus, homogeneous domain and dimensional analysis of the complete electrode model 相关领域
电阻抗断层成像
电阻抗
无量纲量
接触电阻
材料科学
机械
欧姆接触
电导率
断层摄影术
极化(电化学)
电阻率层析成像
电极
声学
电阻率和电导率
物理
光学
工程类
复合材料
电气工程
化学
物理化学
图层(电子)
量子力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Measurement 作者:Marciellyo Ribeiro de Oliveira; Eron Talisson Dias Lourett; Adriana Machado Malafaia da Mata; Márcio Ferreira Martins; F. Sepúlveda; et al 出版日期:2024-05-28 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)