Study of barrier coats for application in immersion 193-nm lithography

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标题	Study of barrier coats for application in immersion 193-nm lithography 浸没式193纳米光刻中阻隔涂层的研究相关领域抵抗浸没式光刻材料科学平版印刷术丙烯酸酯光刻纺纱极紫外光刻纳米技术光学光电子学聚合物复合材料共聚物物理图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.601768
DOI	10.1117/12.601768 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Francis M. Houlihan; Wookyu Kim; Raj Sakamuri; Keino Hamilton; Alla Dimerli; et al 出版日期：2005-05-04
求助人	觞f 在 2024-12-09 09:49:01 发布自江苏，悬赏 20 积分
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