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标题
A high performance pMOSFET with two-step recessed SiGe-S/D structure for 32 nm node and beyond
用于32 nm及以上节点的两级凹槽SiGe-S/D结构高性能pMOSFET
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婷婷 在 2024-04-18 09:37:53 发布自四川,悬赏 10 积分
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