Deposition temperature determination of HDPCVD silicon dioxide films

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标题	Deposition temperature determination of HDPCVD silicon dioxide films HDPCVD二氧化硅薄膜沉积温度的测定相关领域二氧化硅沉积（地质）材料科学硅薄膜分析化学（期刊）化学工程纳米技术化学环境化学光电子学复合材料地质学古生物学沉积物工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.mee.2005.07.079
DOI	10.1016/j.mee.2005.07.079 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：Gianluca Gulleri; C. Carpanese; C. Cascarano; D. Lodi; R. Ninni; et al 出版日期：2005-12-01
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