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标题
A 45nm Logic Technology with High-k+Metal Gate Transistors, Strained Silicon, 9 Cu Interconnect Layers, 193nm Dry Patterning, and 100% Pb-free Packaging
具有高k+金属栅极晶体管、应变硅、9个Cu互连层、193纳米干式图案化和100%无铅封装的45纳米逻辑技术
相关领域
PMOS逻辑 NMOS逻辑 材料科学 光电子学 逻辑门 金属浇口 铜互连 晶体管 电气工程 互连 电介质 栅氧化层 计算机科学 工程类 电压 计算机网络
网址
DOI
10.1109/IEDM.2007.4418914 doi
求助人
番茄煮糖 在 2025-04-23 22:22:56 发布自陕西,悬赏 10 积分
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