Analysis of the geometry of the growth ridges and correlation to the thermal gradient during growth of silicon crystals by the Czochralski-method

几何学 材料科学 热的 温度梯度 矿物学 光学 复合材料 地质学 工作(物理) 晶体生长 山脊
作者
Stockmeier, Ludwig,Kranert, Christian,Fischer, Peter,Epelbaum, Boris,Reimann, Christian,Friedrich, Jochen,Raming, Georg,Miller, Alfred
出处
期刊:Fraunhofer-Gesellschaft - Fraunhofer-Publica [Fraunhofer-Gesellschaft]
标识
DOI:10.24406/publica-r-256897
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