Refractive Index Modification in Thin Film Barium Titanate-on-Insulator and Dry Etch Free Fabrication of Waveguide Devices

制作 钛酸钡 材料科学 折射率 绝缘体(电) 薄膜 波导管 光电子学 干法蚀刻 高折射率聚合物 复合材料 蚀刻(微加工) 纳米技术 电介质 图层(电子) 医学 替代医学 病理
作者
Yu Cao,Hong‐Lin Lin,Haidong Liang,Andrew A. Bettiol,El Hadj Dogheche,Aaron J. Danner
标识
DOI:10.1109/ipc57732.2023.10360613
摘要

We present refractive index modification methods in thin-film barium titanate-on-insulator with a resultant index change up to 0.17, and propose dry etch free device fabrication methods for optical waveguide devices.

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