Effect of cerium (IV) on thin sulfuric acid anodizing of 2024-T3 alloy

阳极氧化 材料科学 腐蚀 硫酸 介电谱 合金 冶金 电流密度 薄膜 化学工程 X射线光电子能谱 电化学 纳米技术 电极 化学 物理化学 工程类 物理 量子力学
作者
Rubén del Olmo,Marta Mohedano,Peter Visser,A. Rodrı́guez,E. Matykina,R. Arrabal
出处
期刊:Journal of materials research and technology [Elsevier BV]
卷期号:15: 3240-3254 被引量:24
标识
DOI:10.1016/j.jmrt.2021.09.117
摘要

Chromic acid anodizing (CAA) is still being used today for corrosion protection of fatigue-critical components in the aeronautic industry due to the lack of feasible alternatives. Ce-containing sulfuric acid anodizing (SAA) has been identified as a promising strategy for the development of alternatives to toxic CAA. This work explores thin sulfuric acid anodizing (TSAA) focusing on the following effects: (i) current density and voltage values; (ii) concentration of Ce(IV). Screening of the optimum combination in search of minimum thickness and the best corrosion resistance was performed using electrochemical impedance spectroscopy (EIS). Two Ce-containing anodic films were selected and further investigated in comparison with the inhibitor-free film in terms of morphology (FEG-SEM, TEM), composition (RBS), corrosion resistance (EIS, NSST), high-cycle fatigue and paint adhesion. The results indicate that the path to approach the CAA performance lies through thin (<1 μm) SAA-Ce films formed at low current density.
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